Nanostructuration d'Oxydes par Dépôt Sélectif H/F - CEA

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.


Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.


Implanté au coeur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.


Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :


- La conscience des responsabilités

- La coopération

- La curiosité

Contexte & missions:

Pour la microélectronique du futur, le dépôt sélectif par zone ou Area Selective Deposition (ASD) constitue une approche prometteuse pour simplifier les schémas d'intégration des dispositifs intégrés ou pour réaliser des motifs difficilement faisables par les techniques conventionnelles utilisant de la gravure [1]. Une des approches étudiée au CEA-LETI consiste à utiliser la résine photosensible comme couche inhibitrice. Nous avons ainsi montré qu'il est possible de réaliser des dépôts localisés d'oxydes de plusieurs dizaines de nm d'épaisseur sur des motifs micrométriques [2]. Toutefois, il existe encore très peu de travaux sur l'extension de cette approche à des dimensions sub-micrométriques.

L'objectif de ce stage est d'étudier le dépôt sélectif d'oxydes afin de réaliser des structures sub-micrométriques difficilement faisables par gravure (motifs de dimensions variées, formes exotiques). Les motifs seront réalisés dans différents polymères photosensibles et le dépôt ALD d'oxydes sur ces motifs sera étudié en détail afin de sélectionner les résines qui permettent de réussir le dépôt sélectif. Il conviendra également de souligner les limites de cette approche lorsque les dimensions critiques des motifs sont réduites.

Pour se faire, il faudra mettre en oeuvre les étapes de photolitograhie, de dépôt ALD et de nanocaractérisation (microscopie électronique, AFM, analyses physico-chimiques incluant l'ellipsométrie, XRR, FTIR, XPS et Tof-SIMS). Ce travail sera réalisé en salle blanche sur des équipements industriels [3]. Ce stage de 6 mois se déroulera au CEA-LETI, dans le service expertise matériaux et procédés, avec une possibilité de poursuite en thèse.

Pourquoi faire un stage au CEA-Leti ?

Le CEA-LETI vous permet de découvrir la recherche et l'industrie, avec une formation sur des équipements de pointe ; le tout dans un cadre de travail dynamique, multidisciplinaire et international.

[1] Dépôt sélectif par zone - ASD, Techniques de l'Ingénieur, re264 (2026)

[2] L. Hahn et al., Proceedings of SPIE 13427 (2025)

[3] Plonger au coeur de la salle blanche (https://www.leti-cea.fr/cea-tech/leti/Pages/actualites/News/cea-video-salle-blanche.aspx)

Étudiant : Master2 ou 3A d' école d'ingénieurs en science des matériaux / physique-chimie / nanotechnologie.

Esprit d'analyse, curiosité scientifique.

Aptitude à l'expérimentation.

• Esprit d'analyse
• Chimie