Impact de la Topographie sur le Revêtement par Centrifugation en Lithographie H/F - 38

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.

Implanté au coeur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.

Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :

- La conscience des responsabilités
- La coopération
- La curiositéRejoignez-nous en Stage !

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En tant que stagiaire au CEA, vous aurez l'opportunité de travailler au sein d'un environnement de recherche de renommée mondiale. Nos équipes sont composées d'experts passionnés et dédiés, offrant un cadre propice à l'apprentissage et à la collaboration. Vous aurez accès à des équipements de pointe et à des ressources de recherche de premier ordre pour mener à bien vos missions.

Description du poste :
Vous évoluerez au sein du service de patterning qui regroupe un ensemble de laboratoires en lien avec la salle blanche du LETI, laboratoires dont la mission commune est le transfert le plus exact possible des dessins des circuits de microélectronique dans les matériaux d'intérêt recouvrant les plaques de silicium.
Plus précisément, vous intégrerez le laboratoire de patterning computationnel (LPAC) où vous mènerez vos travaux avec une équipe d'une vingtaine de personnes habituées à travailler en étroite collaboration. Ainsi vous serez amené à participer à des projets stimulants et innovants.
Accompagné par des spécialistes de lithographie du laboratoire LLIT, de métrologie du laboratoire L2MD et du numérique de LPAC, votre rôle consistera à
modéliser le revêtement par centrifugation d'un wafer présentant ou non une topographie à l'aide d'un outil numérique métier (Slitho)
acquérir des données expérimentales
comparer les résultats numériques et expérimentaux afin de déterminer les conditions d'étalement optimales
évaluer les atouts et les faiblesses de l'outil de modélisation
En fonction des attendus de votre école et de vos envies, certains aspects du sujet pourront être plus mis en avant.
Pour aller plus loin :
Spin coating in semiconductor lithography: Advances in modeling and future prospects, Microelectronic Engineering, (vol 298, 06/2025)

https://www.synopsys.com/manufacturing/mask-solutions/s-litho.html