Stage - Optimisation de la Calibration de Modèle de Lithographie H/F - 38

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.

Implanté au coeur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.

Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :

- La conscience des responsabilités
- La coopération
- La curiositéLes dispositifs microélectroniques à haute densité de circuits sont très demandés et font l'objet de nombreuses recherches et développements dans l'industrie. L'un des moyens d'obtenir une densité de circuits plus élevée consiste à réduire la dimension ou le pas des motifs. Cependant, à mesure que la dimension des motifs diminue, les défis liés à la fabrication augmentent. Des techniques d'amélioration de la résolution (RET), telles que la correction des effets de proximité optique (OPC), doivent donc être utilisées pour générer les masques.
La correction de proximité optique (OPC) vise à améliorer la fidélité des motifs sur wafer en compensant les erreurs dues aux effets optiques ou de procédés pendant les étapes de fabrication. Pour mettre en oeuvre cette correction, un modèle de lithographie est nécessaire. Elle comprend un modèle optique du système d'exposition et un modèle de résine photosensible.
Ces modèles sont calibrés à l'aide d'un très grand volume de données expérimentales, qui comprennent des mesures CD-SEM et des contours extraits d'images SEM. L'acquisition des données et le post-traitement des images constituent un goulot d'étranglement dans le flux de calibration des modèles, consommant énormément de temps et de ressources.
Ce stage vise à optimiser la calibration des modèles de lithographie, en étudiant l'impact des données d'entrée sur la qualité des modèles obtenus.
Vous travaillerez avec un logiciel de lithographie computationnelle en étroite collaboration avec l'équipe de patterning computationnelle.

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Avec sa Direction de la Recherche Technologique (DRT), le CEA agit comme un accélérateur d'innovation au service de l'industrie pour tous les secteurs d'activités, répondant ainsi aux enjeux liés à notre santé, notre sécurité, nos technologies d'information, notre avenir énergétique.


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